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For Semiconductor Thermal Processes
NANOPURE ® HX-5는 반도체 고온공정용으로 특별히 개발된 제품입니다.
특히, Oxidation, Diffusion furnace, LPCVD 등의 고온공정에서 매우 뛰어난 열적 안정성을 제공합니다.
NANOPURE ® HX-5는 낮은 outgassing과 우수한(낮은) 영구압축복원율을 지녔으며, 높은 온도에서 뛰어난 기계적 강도로 고정부 및 구동부 모두 적합합니다.
NANOPURE ® HX-5는 최대 325℃에서 사용 가능합니다.
NANOPURE® HX-5
FFKM C
FFKM B
Color | Black |
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Polymer Type | Perfluoro -elastomer |
Hardness1), Shore A | 76 |
Tensile Strength at Break2), MPa | 16.2 |
Elongation at Break3), % | 205 |
100% Modulus4), MPa | 7.0 |
Compression Set5), % 70 hours @ 204℃ | 8 |
Compression Set5), % 70 hours @ 250℃ | 13 |
Compression Set5), % 70 hours @ 300℃ | 27 |
Compression Set5), % 70 hours @ 325℃ | 43 |
Maximum Continuous Service, Temperature, ℃ |
325 |