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企业沿革

History
Since 2002与客户同行的MNEE的历史历程。
  • 2018

    ·ISO9001/14001 (品质,环境,经营系统)转换认证

  • 2017

    ·授予京畿道有望中小企业再认证
    ·申请2color o-ring制造专利

  • 2016

    ·进军LSR喷射产品市场
    ·增设月制造CAPA 200K设备

  • 2015

    ·荣获LGD部件相关SERVE ONE功劳牌
    ·再次获得技术革新型中小企业INNO BIZ认证

  • 2014

    ·京畿道龙仁市器兴新公司建筑竣工及总公司迁移
    ·导入C&C制造液态注射机

  • 2012

    ·指定为诚实纳税企业( 京畿道 )
    ·导入三维测定设备

  • 2010

    ·韩国国内同行业最早导入制造生产线ERP SYSTEM
    ·荣获SK HYNIX PARTNER’S DAY功劳奖

  • 2009

    ·开始供应三星半导体CMP PARTS
    ·指定为SK HYNIX优秀合作公司
    ·完成LCD专用生产线设置,开始启动

  • 2007

    ·300MM Membrane韩国国内最早国产化成功 ( 进口替代效果 )
    ·LGD合作企业登记
    ·SK HYNIX半导体部件合作企业评价1位
    ·总公司迁移至城南市SK科技园

  • 2006

    ·NANOPURE商标登记
    ·INNO-BIZ中小企业技术革新企业认证

  • 2005

    ·获得韩国产业技术振兴协会认可,设立技术研究所
    ·获得ISO14001认证( 国际品质认证院 )

  • 2003

    ·导入研究开发设备及新设立附设研究所
    ·获得ISO9001 Seal制造及开发部门认证 ( ISC KOREA认证院 )

  • 2002

    ·设立株式会社M&E ( 2002.10.24 )
    ·完成SOLVAY社的过弗化弹性体,签署独家代理合同
    ·SK HYNIX半导体合作企业登记