We will always
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best quality
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Until the day we reach
No.1 in the world market
탄탄한 기술력, 노련한 경험 등 끊임없는
창조정신으로 명품을 만들어 갑니다.
R&D 투자 선행 및 고부가가치 제품 개발에 치중한 결과 열정의 결실로 명실공히
국내 최고의 브랜드 ‘NANOPURE’와 국내 제일의 Seal 제조업체로 성장하였습니다.
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NANOPURE® 7870GNANOPURE ® 7870G는 우수한 내화학성을 제공하며, 다양한 종류의 화학 물질에 잘 견딥니다. 또한 우수한 기계적 특성과 영구압축복원율로 정적/동적 공정에 모두 적합합니다. NANOPURE ® 7870G는 최대 220℃에서 사용 가능합니다.
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NANOPURE® 875HTNANOPURE® 875HT는 고온에서의 불소 기반의 플라즈마 환경에 뛰어난 내성을 갖도록 설계되었습니다. 특히 고온 공정에서 뛰어난 내화학성과 낮은 영구압축변형율을 지녀 씰링의 수명을 연장시킵니다. NANOPURE® 875HT는 최대 320℃에서 사용 가능합니다.
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NANOPURE® M208NANOPURE® M208은 플라즈마로 인한 높은 부식성 환경에서 낮은 식각율로 파티클 발생으로 인한 문제를 최소화하기 위하여 설계되었습니다. 또한 우수한 열적 특성과 물리적 강도를 제공하여, 정적 및 동적공정에 모두 적합합니다. NANOPURE® M208은 최대 310℃에서 사용가능합니다.
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NANOPURE® XUPNANOPURE® XUP는 특히 가혹한 플라즈마 환경에서 낮은 식각율로 파티클 발생으로 인한 문제를 최소화하기 위하여 설계되었습니다. 또한 우수한 영구압축복원율 및 기계적 특성으로 고정부 및 구동부 모두 적합합니다. NANOPURE® XUP 는 최대 300℃에서 사용 가능합니다.
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NANOPURE® HX-8NANOPURE® HX-8은 플라즈마로 인한 높은 부식성 환경에서 낮은 식각율로 파티클 발생으로 인한 문제를 최소화하기 위하여 설계되었습니다. 또한 우수한 열적 특성과 물리적 강도를 제공하여, 정적 및 동적공정에 모두 적합합니다. NANOPURE® HX-8은 최대 310℃에서 사용가능합니다.
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NANOPURE® HX-10NANOPURE® HX-10은 충전제없이 설계된 초순수 과불화탄성체 제품으로 공정오염에 대한 위험을 최소화하며, 산소 및 불소 기반 플라즈마 환경에서 우수한 플라즈마 균열 저항성을 나타냅니다. 또한, 뛰어난 기계적 강도 및 낮은 영구압축 복원율을 가지고 있습니다. NANOPURE® HX-10은 최대 275℃에서 사용 가능합니다.
Total Customers Amount
250개 업체
Semiconductor / LCD / Chemical 흐름에 맞춘 다양한 변화와
새로운 혁신을 기반으로 고객만족이라는 목표를 위해 신용을 이어 나갑니다.
